Intel CEO'su Lip-Bu Tan, Çin'in çip üretim teknolojisinde rakiplerinden çok geride olmadığını belirtti. Sektördeki son gelişmeleri ve yaptırımların etkilerini analiz ettik.
Yarı iletken endüstrisi, ABD ile Çin arasındaki teknolojik üstünlük mücadelesinin odağında yer alıyor. Elon Musk gibi isimler Çin’in üretim kısıtlamalarını kısa sürede aşabileceğini iddia ederken, Zeiss gibi dev şirketlerin yöneticileri aradaki farkın kapanmasının on yılı bulabileceğini öngörüyor.
ASML tarafından üretilen ve çip üretiminde kritik bir role sahip olan EUV makineleri, şu an için Çinli üreticilerin ulaşamadığı bir teknoloji seviyesini temsil ediyor. Ancak Lip-Bu Tan, bu kısıtlamaların Çinli firmaların kendi çözüm yollarını geliştirmelerini teşvik ettiğini ima ediyor.
Sektördeki en dikkat çekici gelişmelerden biri, yerel Çinli firma Landau tarafından duyurulan EUV ışık kaynağı oldu.
Bu yeni prototip, 100 saatlik çalışma süresi ile dikkatleri üzerine çekerken, ASML’nin standartlarıyla kıyaslandığında henüz başlangıç seviyesinde olsa da teknolojik bir atılım olarak değerlendiriliyor. EUV sistemlerinde ışık kaynağının kararlılığı, seri üretim süreçleri için en büyük zorluklardan biri olarak kabul ediliyor. Bu nedenle, Çinli üreticilerin bu alandaki ilerlemeleri, küresel tedarik zincirindeki dengeyi uzun vadede değiştirebilir.
Yorum Yap